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高精度雷達(dá)液位計(jì)

簡要描述:高精度雷達(dá)液位計(jì)是水池和儲(chǔ)罐等簡單工況以及公用工程測量的理想選擇。Micropilot FMR50用于液體、漿料和泥漿的連續(xù)、非接觸式的物位測量。測量不受介質(zhì)變化、溫度變化、氣體覆蓋或蒸汽的影響??赏ㄟ^藍(lán)牙模塊遠(yuǎn)程訪問SmartBlue應(yīng)用程序。可靠的非接觸式測量,不受介質(zhì)和過程條件變化的影響HistoROM集成數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元,幫助快速調(diào)試、維修和診斷測量可靠性高。

  • 生產(chǎn)地址:蘇州
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2024-06-15
  • 訪  問  量:1045
詳情介紹

高精度雷達(dá)液位計(jì)封裝式PVDF或PP鍍層的喇叭天線。


過程連接:1?" 螺紋、安裝支架或松套法蘭


溫度范圍:-40 至 +130°C (-40 至 +266°F)


壓力范圍:-1 至 +3bar (-14.5 至 +43.5psi)


最大測量范圍:30m (98ft), 40m (131ft) 動(dòng)力增強(qiáng)


精度誤差:±2mm


K波段: 26GHz


國際防爆認(rèn)證, WHG溢出保護(hù), SIL, 5點(diǎn)線性協(xié)議


高精度雷達(dá)液位計(jì)優(yōu)勢:

可靠的非接觸式測量,不受介質(zhì)和過程條件變化的影響


HistoROM集成數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元,幫助快速調(diào)試、維修和診斷


測量可靠性高,基于多回波追蹤計(jì)算,即使倉內(nèi)存在障礙物依然能夠準(zhǔn)確測量


硬件和軟件開發(fā)過程符合IEC 61508標(biāo)準(zhǔn),單臺(tái)儀表滿足SIL2, 同構(gòu)冗余條件下達(dá)SIL3


心跳技術(shù),在整個(gè)生命周期內(nèi)實(shí)現(xiàn)高效、安全的工廠運(yùn)營


無縫集成到控制或資產(chǎn)管理系統(tǒng),直觀的引導(dǎo)式操作概念(現(xiàn)場或通過控制系統(tǒng))


通過世界的SIL和WHG實(shí)驗(yàn)認(rèn)證,節(jié)約您的時(shí)間和經(jīng)濟(jì)成本


出現(xiàn)沸騰表面、起泡表面或易生成泡沫液面時(shí),使用 FMR53 或 FMR54 測量。根據(jù)泡沫的具體成份,泡沫可以吸收微波,或微波在泡沫表面發(fā)生發(fā)射。在特定條件下測量仍可進(jìn)行。使用FMR50、FMR51 和 FMR52 測量時(shí),建議選擇附加選項(xiàng)“高級(jí)動(dòng)態(tài)響應(yīng)"(訂購選項(xiàng) 540:“應(yīng)用軟件包 ",選型代號(hào):EM)。


出現(xiàn)嚴(yán)重蒸汽或冷凝現(xiàn)象時(shí),F(xiàn)MR50、FMR51 和 FMR52 的最大測量范圍可能會(huì)減小,取決于蒸汽的密度、溫度和成份→使用 FMR53 或 FMR54 測量。


測量吸附性氣體(例如氨氣 NH3)或部分碳氟化合物 3),請使用 Levelflex 或 Micropilot FMR54在導(dǎo)波管中測量。


波束射至罐底的位置即為量程起點(diǎn)。特別是在圓盤底罐或帶錐形出料口的罐體中,物位低于此點(diǎn),便無法測量。


在導(dǎo)波管中測量時(shí),電磁波不會(huì)在導(dǎo)波管外部傳播。在 C 范圍內(nèi)測量時(shí),測量精度將降低。為了確保此類應(yīng)用場合中所需的測量精度,建議將零點(diǎn)設(shè)置在導(dǎo)波管底部上方的 C(如圖所示)。


測量低介電常數(shù)的介質(zhì)時(shí)(εr = 1.5 … 4) 4) 如果介質(zhì)處于較低物位(低于 C),罐底可見。在此范圍內(nèi)測量時(shí)精度會(huì)降低。如無法接受,在此類應(yīng)用場合中建議將零點(diǎn)設(shè)置在罐底上方的 C(如圖所示)。


理論上最大可測量至 FMR51、FMR53 和 FMR54 天線末端。但是,考慮腐蝕和粘附的影響,最大量程與天線末端間的距離不得小于 A(如圖所示)。


使用帶平面天線的 FMR54 測量時(shí),特別是測量低介電常數(shù)的介質(zhì)時(shí),最大量程與法蘭間的距離不得小 A:1 m (3.28 ft)。


最小測量范圍 B 與天線類型相關(guān)(如圖所示)。


罐體高度不得低于 H(參見下表)。

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